工業用・産業用ヒーターのことなら坂口電熱株式会社 > 製品情報 > レーザー平面瞬間加熱装置
当社のレーザー平面瞬間加熱装置をご紹介します。
下記の製品カテゴリから各製品の基本情報およびPDFカタログ、関連情報などがご覧いただけます。
＜シリコン微細構造の原子レベルでの平滑化と丸め制御により、様々な分野・用途におけるMEMSデバイスの高性能・高信頼性を実現！＞
東北大学 金森義明教授発明のAtomic-Antialiasing Annealing(AAA)技術を用いた水素雰囲気アニールによる立体構造の平滑化と丸め制御新技術を、H30～R2年度サポイン事業により東北大・産総研・ミニマルファブ推進機構との共同開発で製品化しました。
商品に関するお問い合わせ、オーダーメイドなど各種お見積り依頼やお問い合わせはこちらからお気軽にどうぞ。
ExLASER® は多機能型レーザー平面瞬間加熱装置です。
レーザー平面加熱装置「エックス・レーザー」にコンパクト設計・小面積加熱を実現した「ライト」が新登場！
世界最先端のヒーティングシステム「レーザー平面瞬間加熱装置ExLASER®(エックス・レーザー)に、卓上型タイプが誕生。 コンパクト設計により、研究・試験等、様々なシーンで利用できます。
ExLASER® は多機能型レーザー平面瞬間加熱装置です。
＜シリコン微細構造の原子レベルでの平滑化と丸め制御により、様々な分野・用途におけるMEMSデバイスの高性能・高信頼性を実現！＞
東北大学 金森義明教授発明のAtomic-Antialiasing Annealing(AAA)技術を用いた水素雰囲気アニールによる立体構造の平滑化と丸め制御新技術を、H30～R2年度サポイン事業により東北大・産総研・ミニマルファブ推進機構との共同開発で製品化しました。
